| 
				 
					菲羅門Chiral多糖型手性柱的使用及維護
				 
				
					一、手性固定相一覽表
				 
				
					
						
							| 
								 
									正相涂敷型固定相
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									Chiral ND,ND(2), NC(2),NJ(2),NQ(2),NS(2),NT(2),NX(2), NY(2),NZ(2), MB(2), MC(2), MF(2), MG(2), MD,MD(2),MJ(2),MQ(2),MS(2),MX(2),MY(2), MZ(2)
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									正相鍵合型固定相
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									Chiral INA, INB, INC,INE,INF,ING,INH, INJ,INK,INM
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									反相涂敷型固定相
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									Chiral ND(2)-RH, NC(2)-RH,NJ(2)-RH, NQ(2)-RH, NS(2)-RH,NX(2)-RH, NY(2)-RH,NZ(2)-RH, MD(2)-RH,  MJ(2)-RH, MQ(2)-RH,MX(2)-RH, MZ(2)-RH, MS(2)-RH, MY(2)-RH
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
				
					二、常用優化峰形的添加劑的選擇(正相,反相,SFC都可使用)
				 
				
					
						
							| 
								 
									 
								 
							 | 
							
								 
									酸性樣品
								 
							 | 
							
								 
									堿性樣品
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									常規一般使用
								 
							 | 
							
								 
									三氟乙酸,甲酸
								 
								
									(0.1%-0.5%)
								 
							 | 
							
								 
									二乙胺
								 
								
									(0.1%-0.5%)
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									考慮繼續調整峰形使用
								 
							 | 
							
								 
									甲磺酸
								 
								
									(0.1%)
								 
							 | 
							
								 
									三乙胺、乙醇胺、正丁胺(0.1%-0.5%)
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									特別需要時,酸性與堿性添加劑可以同時添加,建議各0.1%
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									添加劑適合正相以及SFC超臨界流體,以及反相(反相應用時,建議0.05%-0.1%)
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
				
					三、正相涂敷型手性固定相常用起始條件
				 
				
					
						
							| 
								 
									 
								 
							 | 
							
								 
									1
								 
							 | 
							
								 
									2
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									起始條件
								 
							 | 
							
								 
									HEX:IPA=80:20
								 
							 | 
							
								 
									HEX:EtOH=80:20
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									調整范圍
								 
							 | 
							
								 
									HEX 99%至50%之間
								 
							 | 
							
								 
									HEX 99%至50%之間
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									HEX:正己烷,IPA:異丙醇,EtOH:無水乙醇
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									HEX比例增加,保留時間會變長
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									IPA與EtOH一般比例不超過50%,遇到極性特別大的樣品,允許最高至95%,正常情況控制在50%以下
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									起始柱溫為25℃,起始流速建議在0.8ml/min左右。有條件的情況下,溫度在5-25℃內調整,對分離度可能產生大的影響。溫度低有時利于拆分,溫度高,出峰快,峰形可能更尖銳
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									Chiral MF(2), Chiral MG(2)流動相中不能用乙醇
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									正相涂敷型手性固定相不能接觸下列溶劑:甲基叔丁基醚(MtBE),二氯甲烷(DCM),四氫呋喃(THF),乙酸乙酯(EtOAc),氯仿(CHCl3),丙酮等
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
				
					四、正相鍵合型手性固定相常用起始條件
				 
				
					
						
							| 
								 
									 
								 
							 | 
							
								 
									1
								 
							 | 
							
								 
									2
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									起始條件
								 
							 | 
							
								 
									HEX:IPA=80:20
								 
							 | 
							
								 
									HEX:EtOH=80:20
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									調整范圍
								 
							 | 
							
								 
									HEX 99%至50%之間
								 
							 | 
							
								 
									HEX 99%至50%之間
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									 
								 
							 | 
							
								 
									3
								 
							 | 
							
								 
									4
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									起始條件
								 
							 | 
							
								 
									MtBE:EtOH=98:2
								 
							 | 
							
								 
									HEX:DCM=50:50
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									調整范圍
								 
							 | 
							
								 
									MtBE 98%至60%之間
								 
							 | 
							
								 
									HEX 85%至50%之間
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									 
								 
							 | 
							
								 
									5
								 
							 | 
							
								 
									6
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									起始條件
								 
							 | 
							
								 
									HEX:THF=70:30
								 
							 | 
							
								 
									HEX:EtOAc=50:50
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									調整范圍
								 
							 | 
							
								 
									HEX 99%至70%之間
								 
							 | 
							
								 
									HEX 99%至50%之間
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									 
								 
							 | 
							
								 
									7
								 
							 | 
							
								 
									8
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									起始條件
								 
							 | 
							
								 
									HEX:CHCl3=30:70
								 
							 | 
							
								 
									ACN:IPA(或MeOH)=100:0
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									調整范圍
								 
							 | 
							
								 
									HEX 60%至100%之間
								 
							 | 
							
								 
									ACN 100%至90%之間
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									HEX比例增加,保留時間會變長
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									除了上述溶劑,溶解與洗脫的必要性下,丙酮以及1,4二氧六環也可使用
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									起始柱溫為25℃,起始流速建議在0.8ml/min左右。有條件的情況下,溫度在5-25℃內調整,對分離度可能產生大的影響。溫度低有時利于拆分,溫度高,出峰快,峰形可能更尖銳
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
				
					五、反相手性固定相常用起始條件
				 
				
					
						
							| 
								 
									 
								 
							 | 
							
								 
									酸性及兩性化合物
								 
							 | 
							
								 
									堿性化合物
								 
							 | 
							
								 
									中性化合物
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									 
								 
								
									 
								 
								
									 
								 
								
									 
								 
								
									 
								 
								
									 
								 
								
									水相 40%
								 
							 | 
							
								 
									0.1%甲酸水
								 
							 | 
							
								 
									0.1% TFA
								 
							 | 
							
								 
									 
								 
								
									 
								 
								
									 
								 
								
									 
								 
								
									 
								 
								
									 
								 
								
									水
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									0.1% TFA水
								 
							 | 
							
								 
									PH=2  100mM高氯酸鈉水溶淮
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									PH=2.5 50mM磷酸緩沖鹽
								 
							 | 
							
								 
									PH=2.5 100mM六氟磷酸鉀水溶液
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									0.1%磷酸水
								 
							 | 
							
								 
									20mM碳酸氫銨水溶液(PH=9)
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									PH=2  100mM高氯酸鈉水溶液
								 
							 | 
							
								 
									20mM碳酸氫銨水溶液(PH=9),含0.1% DEA
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									PH=2  100mM六氟磷酸鉀水溶液
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									有機相 60%
								 
							 | 
							
								 
									ACN, MeOH, IPA
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
				
					 
				 
				
					 
				 
				
					六、正相涂敷型與鍵合型手性柱的清洗與保存
				 
				
					
						
							| 
								 
									常規清洗
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									HEX:IPA=80:20  0.4ml/min 1-2小時并直接保存
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									柱效下降,峰形不正常時可能的特殊殘留物清洗,再生
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									酸性殘留
								 
							 | 
							
								 
									堿性殘留物
								 
							 | 
							
								 
									性質不確定的殘留物
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									EtOH(0.1% DEA) 0.2ml/min  2小時
								 
							 | 
							
								 
									EtOH(0.1% TFA) 0.2ml/min  2小時
								 
							 | 
							
								 
									第1步EtOH(0.1% TFA) 0.2ml/min  2小時
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									 
								 
							 | 
							
								 
									 
								 
							 | 
							
								 
									第2步EtOH(0.1% DEA) 0.2ml/min  2小時
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									清洗完畢后,再用HEX:IPA=80:20  0.4ml/min 1小時,并按COA測試后直接保存
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									EtOH不適用于Chiral MF(2)與Chiral MG(2)固定相。Chiral INB, INC可用EtOAc再生
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									說明:如果是柱頭堵塞與污染,可以0.2ml/min流速倒沖
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
				
					七、反相涂敷型與鍵合型手性柱的清洗與保存
				 
				
					
						
							| 
								 
									常規清洗
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									ACN:H2O=10:90 0.5ml/min 1小時,ACN:H2O=90:10 0.5ml/min 1小時,保存于ACN:H2O=75:25(或60:40)體系中
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									柱效,柱壓,峰形問題時,特殊殘留物的清洗,再生
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									第1步:MeOH:H2O=10:90(含0.1% TFA ) 0.2ml/min 1小時
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									第2步:MeOH:H2O=90:10(含0.1% TFA ) 0.2ml/min 1小時
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									第3步:MeOH:H2O=99:1(含0.1% TFA )  0.2ml/min 2小時
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									第4步:ACN:H2O=75:25  0.5ml/min 30分鐘,并按COA測試后直接保存
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									說明:如果是柱頭堵塞與污染,可以0.2ml/min流速倒沖
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
				
					八、手性色譜柱啟用與切換的注意
				 
				
					
						
							| 
								 
									所有正,反相手性柱啟用時,建議流動相下0.2ml/min流速先運行10分鐘,再提升到0.5ml/min流速運行5分鐘,再提升到需要運行的流速
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									正相涂敷型與鍵合型手性柱,都可以在正相體系,SFC體系(甲醇與液態二氧化碳體系)以及PO極性體系(純ACN或純MeOH為流動相,或者含5%的IPA)切換使用。從一種體系切換到另一種體系時,需用20倍柱體積的IPA以0.2ml/min沖洗以切換。按250*4.6mm柱計算,20倍柱體積約50ml
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									鍵合型手性柱,出廠在正相體系中,如果要轉化為反相柱使用,需用20倍柱體積的IPA以0.2ml/min沖洗后,再用反相體系沖洗轉化為反相柱,之后按反相柱的操作進行。一旦轉化為反相手性柱,則不能再切換回正相
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
				
					 
				 
				
					 
				 
				
					九、手性柱主要特點
				 
				
					
						
							| 
								 
									適用PH范圍為2-9
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									適用溫度范圍為0-40℃
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									適用壓力上限為300bar
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									可供應色譜柱,制備柱產品的粒徑為 3u, 5u, 10u,內徑為2.1mm, 3.0mm, 4.6mm,10mm, 21.2mm, 30mm, 50mm,長度為50mm, 100mm, 150mm, 250mm
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									可供應的填料粒徑為10u
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
				
					十、一些溶劑的UV截止波長
				 
				
					
						
							| 
								 
									溶劑
								 
							 | 
							
								 
									UV截止波長
								 
							 | 
							
								 
									溶劑
								 
							 | 
							
								 
									UV截止波長
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									HEX
								 
							 | 
							
								 
									200nm
								 
							 | 
							
								 
									IPA
								 
							 | 
							
								 
									205nm
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									EtOH
								 
							 | 
							
								 
									210nm
								 
							 | 
							
								 
									MeOH
								 
							 | 
							
								 
									205nm
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									ACN
								 
							 | 
							
								 
									190nm
								 
							 | 
							
								 
									H2O
								 
							 | 
							
								 
									小于190nm
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									DCM
								 
							 | 
							
								 
									233nm
								 
							 | 
							
								 
									EtOAc
								 
							 | 
							
								 
									256nm
								 
							 | 
						 
						
							| 
								 
									MtBE
								 
							 | 
							
								 
									210nm
								 
							 | 
							
								 
									THF
								 
							 | 
							
								 
									212nm
								 
							 | 
						 
					
				 
				
					 
				 
 
 
			 |